デュアルビーム走査電子顕微鏡(FIB-SEM)

ナノ微細構造解析装置群

装置番号/ARIM設備ID D08/KT-408
装置名 デュアルビーム走査電子顕微鏡(FIB-SEM)
Dual Beam FIB-SEM
デュアルビーム走査電子顕微鏡(FIB-SEM)
製造社名 日本電子(株) (https://www.jeol.co.jp/)
品名・型番 JIB-4700F
特徴

FIB-SEM 一体型で加工・観察を行える装置です。Ga イオンビームで切断し、局所領域(数um)を薄片化することができます。

TEM試料作製に使用することができるほか、単体でEDSによる元素分析、EBSDによる結晶方位解析が可能です。表面を削りながら観察することによる3D分析が可能です。

キーワード TEM試料作製,表面/断面観察, EDS元素分析, EBSD方位分析, 低温ステージ(-150℃-)
設置場所

宇治地区 32. 超高分解能分光型電子顕微鏡棟 6号室

装置利用料金

こちらをご覧ください

仕様

SEM観察用電子銃 加速電圧 0.1-30 kV
分解能 1.2 nm (SEM)
加工用Gaイオン源 1~30kV
最大電流 90 nA
EBSD Oxford Symmetry S3
EDS Oxford
試料プローバー Oxford Omni Probe 400
上方反射電子検出器
上方二次電子検出器
低温試料ホルダ -150℃程度まで冷却可能
サンプルサイズ(ウエハ等) 5 x 5 mm, t~0.5 mm (面積は多少増減化)
サンプルサイズ(バルク) 12.5 / 26 / 32 mm Φ x 15 mm 程度
導電性コーティング カーボン・金・白金コーティングが可能
注意点 磁性体粉末の観察は困難。大型試料や低温ユニットの利用は要事前相談

参考画像

デュアルビーム走査電子顕微鏡(FIB-SEM) デュアルビーム走査電子顕微鏡(FIB-SEM) デュアルビーム走査電子顕微鏡(FIB-SEM)
一覧ページ