デュアルビーム走査電子顕微鏡(FIB-SEM)
ナノ微細構造解析装置群
装置番号/ARIM設備ID | D08/KT-408 |
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装置名 | デュアルビーム走査電子顕微鏡(FIB-SEM) Dual Beam FIB-SEM |
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製造社名 | 日本電子(株) (https://www.jeol.co.jp/) |
品名・型番 | JIB-4700F |
特徴 | FIB-SEM 一体型で加工・観察を行える装置です。Ga イオンビームで切断し、局所領域(数um)を薄片化することができます。 TEM試料作製に使用することができるほか、単体でEDSによる元素分析、EBSDによる結晶方位解析が可能です。表面を削りながら観察することによる3D分析が可能です。 |
キーワード | TEM試料作製,表面/断面観察, EDS元素分析, EBSD方位分析, 低温ステージ(-150℃-) |
設置場所 | 宇治地区 32. 超高分解能分光型電子顕微鏡棟 6号室 |
装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
SEM観察用電子銃 | 加速電圧 0.1-30 kV 分解能 1.2 nm (SEM) |
加工用Gaイオン源 | 1~30kV 最大電流 90 nA |
EBSD | Oxford Symmetry S3 |
EDS | Oxford |
試料プローバー | Oxford Omni Probe 400 |
上方反射電子検出器 | |
上方二次電子検出器 | |
低温試料ホルダ | -150℃程度まで冷却可能 |
サンプルサイズ(ウエハ等) | 5 x 5 mm, t~0.5 mm (面積は多少増減化) |
サンプルサイズ(バルク) | 12.5 / 26 / 32 mm Φ x 15 mm 程度 |
導電性コーティング | カーボン・金・白金コーティングが可能 |
注意点 | 磁性体粉末の観察は困難。大型試料や低温ユニットの利用は要事前相談 |