光⼲渉膜厚計

ナノ材料分析・評価装置群

装置番号/ARIM設備ID C51/KT-351
装置名 光⼲渉膜厚計
Thickness Measurement Instruments
光⼲渉膜厚計
製造社名 FILMETRICS (https://www.filmetricsinc.jp/)
品名・型番 膜厚測定システム F20
特徴

サンプルはフェイスUp Downいずれでも測定可能

キーワード
設置場所

桂化学処理室

装置利用料金

こちらをご覧ください

仕様

膜厚測定範囲 15nm~70µm
膜材料その他条件によって異なります。
波長範囲 380~1050nm
一覧ページ