分析走査電子顕微鏡
ナノ材料分析・評価装置群
装置番号/ARIM設備ID | C02/KT-302 |
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装置名 | 分析走査電子顕微鏡 Analytical Variable-Pressure Field Emission SEM |
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製造社名 | (株)日立ハイテクノロジーズ (https://www.hitachi-hightech.com/jp/ja/) |
品名・型番 | 日立低真空分析走査電子顕微鏡 SU-6600 |
特徴 | |
キーワード | |
設置場所 | 総合研究10号館 加工・評価室 |
装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
分解能 | 【二次電子分解能】 1.2nm(Vacc:30kV/WD=5mm/Mag:x180k/HiVac) 3.0nm(Vacc:1kV/WD=4mm/Mag:x80k/HiVac) 3.0nm (Vacc:30kV/WD=5mm/Mag:x80k/LowVac:60Pa) 【反射電子分解能】 3.0nm (Vacc:30kV/WD=5mm/Mag:x80k/LowVac:10Pa) |
倍率 | x10~600,000 |
電子銃 | ZrO/Wショットキーエミッション形 |
プローブ電流 | 1pA~200nA |
加速電圧 | 0.5~30kV |
レンズ系 | 3段電磁レンズ縮小系 |
対物レンズ | アウトレンズ形 可動絞り(4孔) |
試料サイズ | MAX Φ150mm x t40mm |
検出器 | 二次電子検出器 高感度半導体反射電子検出器 |
真空度 | 高真空:< 7 x 10-4Pa 低真空:10~300Pa (ADAPT機能) |
その他 | 試料交換器(エアロック方式) |
付属装置 | エネルギー分散形X線検出器(EDX):Inca E-MAX20 後方散乱電子回折像検出器 (EBSD):HKL Channel 5 IRカメラ イオンミリング装置(日立 E-3500PLUS) |