分析走査電子顕微鏡

ナノ材料分析・評価装置群

装置番号/ARIM設備ID C02/KT-302
装置名 分析走査電子顕微鏡
Analytical Variable-Pressure Field Emission SEM
分析走査電子顕微鏡
製造社名 (株)日立ハイテクノロジーズ (https://www.hitachi-hightech.com/jp/ja/)
品名・型番 日立低真空分析走査電子顕微鏡 SU-6600
特徴
キーワード
設置場所

総合研究10号館 加工・評価室

装置利用料金

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仕様

分解能 【二次電子分解能】
1.2nm(Vacc:30kV/WD=5mm/Mag:x180k/HiVac)
3.0nm(Vacc:1kV/WD=4mm/Mag:x80k/HiVac)
3.0nm
(Vacc:30kV/WD=5mm/Mag:x80k/LowVac:60Pa)
【反射電子分解能】
3.0nm
(Vacc:30kV/WD=5mm/Mag:x80k/LowVac:10Pa)
倍率 x10~600,000
電子銃 ZrO/Wショットキーエミッション形
プローブ電流 1pA~200nA
加速電圧 0.5~30kV
レンズ系 3段電磁レンズ縮小系
対物レンズ アウトレンズ形 可動絞り(4孔)
試料サイズ MAX Φ150mm x t40mm
検出器 二次電子検出器
高感度半導体反射電子検出器
真空度 高真空:< 7 x 10-4Pa
低真空:10~300Pa (ADAPT機能)
その他 試料交換器(エアロック方式)
付属装置 エネルギー分散形X線検出器(EDX):Inca E-MAX20
後方散乱電子回折像検出器
(EBSD):HKL Channel 5 IRカメラ
イオンミリング装置(日立 E-3500PLUS)
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