ナノインプリントシステム
ナノ材料加工・創造装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | B57／KT-257 |
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| 装置名 | ナノインプリントシステム Nanoimprint Lithography |
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| 製造社名 | Obducat (https://www.obducat.com/) |
| 品名・型番 | Eitre3 |
| 特徴 | 最大3インチの基板サイズ対応の一括転写ナノインプリント装置 ・空気圧による基板全面への均一なインプリント |
| キーワード | |
| 設置場所 | 桂クリーンルーム |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 装置仕様 インプリント方式 | 熱およびUV、全面一括 |
| 到達温度 | 250℃（最高） |
| 圧力 | 50bar（最高） |
| 基板サイズ | 3インチΦ（最大） |