簡易RIE装置
ナノ材料加工・創造装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | B53／KT-253 |
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| 装置名 | 簡易RIE装置 Tabletop Reactive Ion Etcher |
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| 製造社名 | (株)サムコ (https://www.samco.co.jp/) |
| 品名・型番 | FA-1 |
| 特徴 | |
| キーワード | |
| 設置場所 | 桂クリーンルーム |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| エッチングガス | CF4、O2 |
| 試料サイズ | チップ～6インチ程度 |
| 用途 | ・各種パッシベーション膜の除去 ・フォトレジストのアッシング ・各種シリコン薄膜のエッチング ・ガラス基板などの表面クリーニング |