ICP-RIE装置
ナノ材料加工・創造装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | B52／KT-252 |
|---|---|
| 装置名 | ICP-RIE装置 Inductive Coupled Plasma Reactive Ion Etcher |
|
|
| 製造社名 | (株)ULVAC (https://www.ulvac.co.jp/) |
| 品名・型番 | NE-730 |
| 特徴 | |
| キーワード | |
| 設置場所 | 桂クリーンルーム |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 試料サイズ | 4インチ |
| 対応基板 | Si、ガラス 等 |
| エッチング可能材料（実績のあるもの） | DPXC、DPXN |
| エッチングガス | SF6、CF4、CHF3、C4F8、Ar、O2 |
| プラズマソース | 誘導結合プラズマ |