原⼦層堆積装置
ナノ材料加工・創造装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | B38／KT-238 |
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| 装置名 | 原⼦層堆積装置 Atomic Layer Deposition |
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| 製造社名 | サムコ(株) (https://www.samco.co.jp/) |
| 品名・型番 | AD-800LP-KN |
| 特徴 | ナノレベルかつコンフォーマルの薄膜を形成するためのALD装置。ゲート酸化膜、バリア膜、透過防止膜などへの利用が可能。 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究6号館 クリーンルーム1 |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 成膜方式 | サーマル/プラズマ |
| 基板サイズ | 小片～Φ8″ |
| 材料ガス | BDEAS(Si系)、TMA(Al系)、TDMAT(Ti系) ほか（要相談） |
| 反応ガス | H2O、O2、O3、N2、NH3、H2 |
| キャリアガス | Ar、N2 |