赤外線ランプ加熱装置
ナノ材料加工・創造装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | B37／KT-237 |
|---|---|
| 装置名 | 赤外線ランプ加熱装置 Rapid Thermal Annealing Apparatus |
|
|
| 製造社名 | アドバンス理工(株) (https://advance-riko.com/) |
| 品名・型番 | RTP-6 |
| 特徴 | 赤外線ランプによる急速加熱 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究10号館 加工・評価室 |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 処理チャンバ雰囲気 | N2、Ar、4%H2-N2、減圧（ロータリーポンプ）、大気 |
| 基板サイズ | 最大6インチ、SiCコートカーボン製サセプタ：Φ165mm |
| 温度・保持時間 | 最高温度1,100℃ 800℃保持は30分以下 1,000℃保持は10分以下 1,100℃は保持時間なし（到達後すぐに降温） |
| 昇温速度 | 10℃/秒以下（サセプタ保護） |
| 用途 | プログラム操作で、昇温、保持、降温を制御 |