真空蒸着装置
ナノ材料加工・創造装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | B32,B33／KT-232,KT-233 |
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| 装置名 | 真空蒸着装置 Thermal Evaporator |
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| 製造社名 | (株)サンバック (https://www.sanvac.com/) |
| 品名・型番 | 抵抗加熱蒸着装置 RD-1400 |
| 特徴 | 真空中で抵抗加熱蒸発源により物質を蒸発させ、電極・マスク材等の金属膜を作製することができます。 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究10号館 加工・評価室 |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 到達圧力 | 7.0×10-5Pa以下（常圧・無負荷時） |
| 蒸着方法 | 抵抗加熱方式 |
| 電極数量 | 3式(切り替え方式） |
| 基板 | Φ4インチおよびΦ6インチウェハーに対応 |
| 基板加熱温度 | ハロゲンランプ加熱方式により最高350℃ |