レーザアニール装置
ナノ材料加工・創造装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | B15／KT-215 |
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| 装置名 | レーザアニール装置 KrF Laser Annealing System |
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| 製造社名 | AOV(株) (http://www.aov.co.jp/) |
| 品名・型番 | KrFエキシマレーザアニーリング システム LAEX-1000 |
| 特徴 | KrFレーザーを結像マスクに通し、マスクのパターンを真空チェンバー内のターゲット上に 縮小投影することによって、ターゲット表面のアニーリングをする装置。波長248nm。 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 国際科学イノベーション棟 |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| ビームの縮小率 | 7.95 |
| マスク上での均一強度分布のビームサイズ | 20x20mm |
| マスク上での均一性 | <5% |
| マスク上での最大エネルギー密度 | 95mJ/cm2 |
| ターゲット上での最大エネルギー密度 | ターゲット上での 最大エネルギー密度 |
| 作動距離 | 67 mm |
| 分解能 | 5.3 um Lines&spaces |
| 光利用効率 | ～61％ |