電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置

ナノ材料加工・創造装置群

装置番号/ARIM設備ID B11/KT-211
装置名 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
Electron Cyclotron Resonance Ion Shower
電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置
製造社名 (株)エリオニクス (https://www.elionix.co.jp/)
品名・型番 ECRイオンシャワー装置 EIS-1200
特徴

本装置はおもに微細加工のエッチングを行うための装置です。 ナノプリント用モールド作成などのナノテク分野の研究・加工で必要となる基板や、シリコン、 また磁性などのエッチングを行うことができます。

キーワード
設置場所

総合研究6号館 クリーンルーム2

装置利用料金

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仕様

イオン銃 ECR型イオン銃
加速電圧 30~3000V
ビーム電流密度 1.0mA/cm2以上(加速電圧 1000VでArまたはO2使用時)
ビーム径 Φ108mm(700V加速,Ar又はO2ガス単独仕様で0.4mA
~0.6mA/cm2程度のビーム強度時)
試料サイズ Φ6インチ、Φ2.5インチ、□75mm×7mm
到達真空度 2×10-4Pa
試料ステージ 垂直回転水冷ステージ(温度制御:-20~70℃)
試料交換 ロードロック機構付
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