磁気中性線放電ドライエッチング装置
ナノ材料加工・創造装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | B09／KT-209 |
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| 装置名 | 磁気中性線放電ドライエッチング装置 Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Dry Etcher |
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| 製造社名 | (株)アルバック (https://www.ulvac.co.jp/) |
| 品名・型番 | 高密度プラズマドライエッチング装置 NLD-570 |
| 特徴 | 石英・ガラス・金属酸化物など多種材料に対応したドライエッチング装置 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究6号館 クリーンルーム1 |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| プラズマ源 | 磁気中性線プラズマ（NLD） |
| 基板サイズ | Φ6″ウエハ（JEIDA，SEMI） |
| 基板ステージ | メカチャック チラー温度制御（-20～40℃） He冷却機構 |
| 高周波電源 | アンテナ：2kW（13.56MHz） バイアス：600W（12.5MHz） |
| ガス導入系 | Ar O2 C4F8 CHF3 CF4 SF6 Cl2 BCl3 |
| 用途 | 石英，ガラス，水晶，金属酸化物 ほか |
| その他 | ロードロック室 |