プラズマCVD
ナノ材料加工・創造装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | B05／KT-205 |
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| 装置名 | プラズマCVD Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition System |
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| 製造社名 | 住友精密工業(株) (https://www.spp.co.jp/) |
| 品名・型番 | SiO2、SiN膜形成用プラズマCVD装置 MPX-CVD |
| 特徴 | 酸化膜と窒化膜を高速で成膜することができます。 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究6号館 クリーンルーム1 |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 基板 | MaxΦ8インチ、不定形に対応 |
| 平行平板型プラズマ発生装置 | (上部RF電源：500W（13.56MHｚHz)、 下部RF電源：500W（380ｋHz)) |
| プロセスガス | Ar O2 C4F8 N2 NH3 H2 |
| 液体材料 | TEOS TSA |
| 成膜温度 | 150〜350℃ |