多元スパッタ装置(仕様B)
ナノ材料加工・創造装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | B02／KT-202 |
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| 装置名 | 多元スパッタ装置(仕様B) RF Magnetron Multi-Sputter Type-B |
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| 製造社名 | キャノンアネルバ(株) (https://anelva.canon/) |
| 品名・型番 | 汎用性スパッタリング装置 EB1100 |
| 特徴 | |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究10号館 加工・評価室 |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 装置構造 | 平行平板（スパッタアップ） |
| カソード | 非磁性体Φ4″PMC ｘ 3基 |
| 基板トレイ | Φ4″Siウエハ（JEIDA，SEMI） x 3枚用 Φ6″Siウエハ（JEIDA，SEMI） x 1枚用 |
| 基板ホルダ | 加熱機構：800℃（ランプ加熱型） 回転機構：MAX60rpm Ｔ／Ｓ距離：100～200mm |
| RF電源 | 1,000kW x 3基（同時スパッタ可） |
| ガス供給 | Ar、O2 |
| 使用ターゲット材 | 【要相談】 |
| その他 | 逆スパッタ可 ロードロック室装備 |