高速マスクレス露光装置
ナノリソグラフィー装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | A56／KT-156 |
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| 装置名 | 高速マスクレス露光装置 High Speed Maskless Laser Lithography |
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| 製造社名 | (株)ナノシステムソリューションズ (https://www.nanosystem-solutions.com/) |
| 品名・型番 | マスクレス露光装置 D-light DL-1000GS/KCH |
| 特徴 | グレースケール露光機能を備えたDMD方式の高速マスクレス露光装置 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 桂 クリーンルーム |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 光源 | LED |
| 主波長 | 405nm |
| 露光パワー | 1W/cm2以上 |
| 最小画素 | 1μm |
| ワークサイズ | Φ6インチ |
| 重ね合わせ精度 | ±1μm以内 |
| 位置決め精度 | ±0.1μm(内臓スケール繰り返し) |
| 露光均一性 | ±5%以内 |
| 最高処理能力 | 200m㎡/min以上 |
| グレースケール露光 | 最大階調256階調 |