移動マスク紫外線露光装置
ナノリソグラフィー装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | A53／KT-153 |
|---|---|
| 装置名 | 移動マスク紫外線露光装置 Moving Mask UV Lithography |
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| 製造社名 | (株)大日本科研 (https://www.kakenjse.co.jp/) |
| 品名・型番 | MUM-0001 |
| 特徴 | |
| キーワード | |
| 設置場所 | 桂クリーンルーム |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 露光光源 | 超高圧水銀灯 |
| 主波長 | 365nm、405nm、436nm （フィルタにより選択可能） |
| 露光パワー | 39mW/cm2（UV-SN35） |
| 露光均一性 | ±5% |
| マスクサイズ | □5インチ |
| 試料サイズ | Φ4インチ |
| 試料厚 | 0.5mm |
| 位置決め | 手動 |
| 三次元加工 | 移動マスク露光 |