マスクレス露光装置

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ナノリソグラフィー装置群

装置番号／ARIM設備ID A21／KT-121
装置名 マスクレス露光装置
Advanced Maskless Aligner
マスクレス露光装置
製造社名 Heidelberg Instruments (https://heidelberg-instruments.com/)
品名・型番 THE ADVANCED MASKLESS ALIGNER MLA150
特徴

・波長375nm、DMD方式のマスクレス露光装置
・裏面アライメントにも対応
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The Maskless Aligner MLA 150 takes you into the future of photolithography: The traditional photomask becomes a thing of the past as your design file is exposed directly onto the resist-coated wafer via a 2-dimensional Spatial Light Modulator.
キーワード
設置場所

総合研究6号館 イエロールーム(施設情報)
装置利用料金

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仕様

光源 レーザーダイオード
主波長 375 nm
最小描画線幅 1.0 μm
最小描画L/S 1.2 μm
ワークサイズ Φ5 mm ～ ▢6 inch
ワークサイズ（厚み） 0.1 mmt ～10 mmt

参考画像

マスクレス露光装置 マスクレス露光装置 マスクレス露光装置

１枚目：高速描画
約10mm（4インチ）角にほぼ全面に４μmのドットの描画が20分で終了する
２枚目：SU-8 描画事例
SU-8を直接露光可能
（実例）PDMS用流路のモールド
３枚目：1um程度の描画
左 1umの単独ラインの描画結果
カタログスペックが1μm
右 2μmライン＆スペースの描画結果
カタログスペックは1.2μmL＆S

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