高圧ジェットリフトオフ装置
ナノリソグラフィー装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | A18／KT-118 |
|---|---|
| 装置名 | 高圧ジェットリフトオフ装置 High Pressure Jet Lift-off Apparatus |
|
|
| 製造社名 | (株)カナメックス (https://www.kanamex.co.jp/) |
| 品名・型番 | 剥離/リフトオフ装置 KLO-200SV1 |
| 特徴 | NMPによるリフトオフ、水洗、乾燥 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究6号館 イエロールーム |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 剥離機構 | 加温NMP流下によるレジスト膨潤／加温NMP加圧噴射によるレジスト剥離 加温：最高80℃、常用65℃ 加圧：1.47～14.7MPa、常用6.6～13.2MPa |
| 基板サイズ | 真空吸着用テーブル：吸着部分φ60mm、テーブル外径φ70mm Φ6インチウエハ可 ピンテーブル：□10mm～45mm可変 |
| 用途 | プログラム操作で、リフトオフとその後の水洗、乾燥を実行 |