大面積超高速電子線描画装置
ナノリソグラフィー装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | A15／KT-115 |
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| 装置名 | 大面積超高速電子線描画装置 Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography |
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| 製造社名 | (株)アドバンテスト (https://www.advantest.com/ja/) |
| 品名・型番 | F7000S-KYT01 |
| 特徴 | 1Xnmの解像性能で、研究開発から製造までの幅広い用途に適応 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究10号館 加工評価室（クリーンルーム） |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 解像度 | 1Xnm |
| 制御方式 | ウエハ(Φ2″、Φ3″、Φ4″、Φ6″およびΦ8″) ガラス基板（4009、5009） 小片基板10mm〜30mm(厚み限定) |
| 露光対象基板 | CP露光方式・VSB露光方式 |