有機現像液型レジスト現像装置
ナノリソグラフィー装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | A14／KT-114 |
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| 装置名 | 有機現像液型レジスト現像装置 EB-Resist Developer |
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| 製造社名 | (株)カナメックス (https://www.kanamex.co.jp/) |
| 品名・型番 | KD(EB)-150CBU |
| 特徴 | EBレジストの有機溶剤系現像、 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究6号館 イエロールーム |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 基板サイズ | Wafer Φ4″,Φ6″ Mask □3,□4 |
| 制御方式 | シーケンサコントロール 20レシピ、各レシピ30ステップ （回転数、処理時間、スイング速度等） |
| 対応粘度範囲 | 現像液ノズル2系統 (スイング機構付、表面用） IPAリンスノズル1系統 (スイング機構付、表面用） IPAリンスノズル1系統 (固定ノズル、裏面用） 現像液温調機能 (10～25℃±0.5℃） N2ガスブローノズル（固定ノズル） スピン乾燥 (MAX2000RPM） |