ウエハスピン洗浄装置
ナノリソグラフィー装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | A11／KT-111 |
|---|---|
| 装置名 | ウエハスピン洗浄装置 Wafer Spin Cleaner |
|
|
| 製造社名 | (株)カナメックス (https://www.kanamex.co.jp/) |
| 品名・型番 | ウエハスピン剥離・洗浄装置 KSC-150CBU |
| 特徴 | 純水洗浄(メガソニックや2流体) |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究6号館 イエロールーム |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| ワークサイズ | Wafer Φ2″～Φ6″ Mask □2.5″,□5 |
| 制御方式 | シーケンサーコントロール 20レシピ30ステップ(回転数、処理時間、スイング速度 etc) |
| 機能 | スイングアーム×2 リンスノズル(表面、裏面) スピン乾燥(MAX 2000rpm) |