レジスト現像装置
ナノリソグラフィー装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | A10／KT-110 |
|---|---|
| 装置名 | レジスト現像装置 Photoresist Developer |
|
|
| 製造社名 | (株)カナメックス (https://www.kanamex.co.jp/) |
| 品名・型番 | ウエハスピン現像装置 KD-150CBU |
| 特徴 | フォトレジスト |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究6号館 イエロールーム |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 基板サイズ | Wafer Φ2″～Φ6″、不定形 可 Mask □2.5″,□5″ |
| 制御方式 | シーケンサコントロール 20レシピ30ステップ(回転数、処理時間、スイング速度 etc) |
| 機能 | スイングアーム×1(パドル or スプレー) リンスノズル(表面、裏面) スピン乾燥(MAX 2000rpm) |