レーザー直接描画装置
ナノリソグラフィー装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | A03／KT-103 |
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| 装置名 | レーザー直接描画装置 Laser Pattern Generator |
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| 製造社名 | Heiderberg Instruments |
| 品名・型番 | レーザー描画装置 DWL2000 |
| 特徴 | Φ1μmのレーザービームを偏向・変調し高精度に制御されたステージとの組み合わせで微細パターンを描画 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究6号館 イエロールーム |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| レーザー描画装置 | 200×200m㎡ |
| 最小描画サイズ | 0.7μm |
| 最小アドレス・グリッド | 30(描画モードⅠ)～370 (描画モードⅣ)m㎡/分 |
| 3D露光モード アライメント用カメラシステム バックサイド・アライメント・ システム | |
| 描画データ入力フォーマット | DXF,CIF,GDSll,Gerber,BMP,Ascii,STL |
| グレースケール露光対応 |