高速高精度電子ビーム描画装置
ナノリソグラフィー装置群
| 装置番号／ARIM設備ID | A01／KT-101 |
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| 装置名 | 高速高精度電子ビーム描画装置 Ultra-High Precision Electron Beam Lithography |
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| 製造社名 | (株)エリオニクス (https://www.elionix.co.jp/) |
| 品名・型番 | 超高精細高精度電子ビーム描画装置 ELS-F125HS |
| 特徴 | 加速電圧125kVを採用し、かつ最小ビーム径をΦ1.7nmにすることで最小加工線幅5nmが可能 |
| キーワード | |
| 設置場所 | 総合研究6号館 イエロールーム |
| 装置利用料金 | こちらをご覧ください |
仕様
| 電子銃 | ZrO/W熱電界放射型 |
| 加速電圧 | 125kV,100kV,75kV,50kV,25kV |
| 最少電子ビーム径 | 1.7nm(於125kV) |
| 描画最小線幅 | 5nm(於125kV) |
| ビーム電流強度 | 5pA～120nA |
| 描画フィールドサイズ | 最大2,400μm×2,400μm(於25kV) 1,200μm×1,200μm(於75,50,25kV) 500μm×500μm(於125kV,100kV) 最小100μm×100μm |
| ビームポジション | 最大1,000,000×1,000,000(20bit DAC) |
| ビーム位置決め分解能 | 0.078nm |
| 最大試料サイズ | 8インチΦウェハー又は8インチ□マスク |