A:ナノリソグラフィー装置群

A1　高速高精度電子ビーム描画装置   品名・型番：　超高精細高精度電子ビーム描画装置ELS-F125HS 製造　　　：　株式会社エリオニクス

A2　露光装置（ステッパー）   品名・型番：　縮小投影型露光装置NSR-2205i11D 製造　　　：　株式会社ニコン

A3　レーザー直接描画装置   品名・型番：　レーザー描画装置　DWL2000 製造　　　：　株式会社日本レーザー (Heiderberg　Instruments　Mikrotechnik)

A4　高速マスクレス露光装置   品名・型番：　マスクレス露光装置　D-light DL-1000GS/KCH 製造　　　：　株式会社ナノシステムソリューションズ

A5　両面マスクアライナー   品名・型番：　手動両面マスクアライナ SUSS MA6 BSA 製造　　　：　ズース・マイクロテック株式会社

A6　紫外線露光装置   品名・型番：　マスクアライナー　MA-10型 製造　　　：　ミカサ株式会社

A7　厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置   品名・型番：　SUSS DELTA80T3/VP 製造　　　：　ズース・マイクロテック株式会社

A8　レジスト塗布装置   品名・型番：　ウエハスピンコータ KRC-150CBU 製造　　　：　株式会社カナメックス

A9　スプレーコータ   品名・型番：　マイクロマシン/MEMS用スプレーコーター 製造　　　：　ウシオ電機株式会社

A10　レジスト現像装置   品名・型番：　ウエハスピン現像装置 KD-150CBU 製造　　　：　株式会社カナメックス

A11　ウェハスピン洗浄装置   品名・型番：　ウエハスピン剥離・洗浄装置 KSC-150CBU 製造　　　：　株式会社カナメックス

A12　ウェハ汚染計測装置   品名・型番：　Agilent7700x ICP-MSシステム 製造　　　：アジレント・テクノロジー株式会社

A13　液滴吐出描画装置   品名・型番：　サブフェムトインクジェット加工装置 ST050 製造　　　：　株式会社SIJテクノロジ

A14　有機現像液型レジスト現像装置   品名・型番：　KD(EB)-150CBU 製造　　　：　株式会社カナメックス

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